ion deposition

基本解釋

ZHOU S, YAN Y X. Structure and mechanical properties of DLC films by pulsed vacuum arc ion deposition[J]. Vacuum, 2005,42(2):15-18.
[12] 周順，嚴一心。脈沖真空電弧離子鍍在不銹鋼上沉積類金剛石薄膜的研究[J]。真空，2005，42（2）：15-18。
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The system include pulse cathodic arc ion deposition, direct current cathodic arc ion deposition, magnetic sputtering and electronic beam evaporation technologies.
該系統(tǒng)集脈沖陰極弧離子鍍、直流陰極弧離子鍍、磁控濺射和電子束蒸發(fā)等鍍膜工藝以及氣體和金屬離子注入于一體。
Ion energy is an important parameter influencing the quality of films by pulsed vacuum arc ion deposition, so it is very necessary to measure the ion energy of pulsed arc.
離子能量是影響脈沖真空電弧離子鍍鍍膜質(zhì)量的一個重要參數(shù)，因而測量真空電弧中離子的能量非常重要。